Китай отстаёт от ASML на 15 лет — и страна вряд ли освоит EUV-литографию раньше 2040 года — 2 сентября 2026 г. в 16:22:04.318
Китай отстаёт от ASML на 15 лет — и страна вряд ли освоит EUV-литографию раньше 2040 года Китайские производители литографического оборудования отстают от ASML примерно на 15 лет, считают аналитики UBS. По их оценке, освоить EUV-технологию самостоятельно раньше 2040 года Китаю вряд ли удастся. Зато массовое производство DUV-установок китайские компании могут наладить в ближайшие 2–5 лет: выпуск, по данным Reuters, вырастет с пяти систем в этом году примерно до 20 в следующем. Прототип EUV-установки в Китае уже создали, но чипы на ней пока производить не получается. #asml #литография #производствомикросхем #полупроводники https://3dnews.ru/1147843?utm_source=nova&utm_medium=max
590 просмотров