🚀 ASML и Zeiss готовят литографию Hyper NA
🚀 ASML и Zeiss готовят литографию Hyper NA ⚡️ Компании ASML и Carl Zeiss объединились для создания новой системы Hyper NA. Эта технология позволит печатать элементы микросхем размером около 5 нм. 🛠️ Главная фишка новинки — существенное улучшение чёткости. По предварительным данным, разрешение вырастет более чем на треть по сравнению с текущими установками High-NA EUV. 📅 Пока проект находится на самой ранней стадии. Разработка может растянуться на ближайшие десять лет, а решение о том, когда пустить систему в реальное производство, пока не принято. Ждём апгрейда техпроцессов в будущем! 🖥️
9 просмотров