В России разработали материал для полировки пластин при производстве чипов
В России разработали материал для полировки пластин при производстве чипов Учёные создали полировальную суспензию на основе очищенного диоксида кремния Учёные Нижегородского государственного университета имени Лобачевского запатентовали технологию глубокой очистки нанопорошка диоксида кремния, который используется при создании полировальных суспензий для производства микросхем. Разработка позволяет контролировать размер, форму и однородность частиц, а также снижать содержание примесей. Технологическая линия и регламент получения материала уже подготовлены, созданная суспензия направлена индустриальному партнёру для испытаний. https://www.ixbt.com/news/2026/10/16/v-rossii-razrabotali-material-dlia-polirovki-plastin-pri-proizvodstve-cipov.html