В России разработали установку для безмасковой литографии 150 нм — 29 июля 2026 г. в 18:31:00.745
В России разработали установку для безмасковой литографии 150 нм Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) создал два опытных образца установки электронно-лучевой литографии с нормами 150 нм. Оборудование поддерживает безмасковый режим, позволяя наносить рисунок микросхемы напрямую на подложку, что критически важно для прототипирования и выпуска специализированных чипов.
132 просмотров