Россия в 2026 году переходит к следующему этапу развития собственной литографии: после ...
Россия в 2026 году переходит к следующему этапу развития собственной литографии: после 350 нм и на фоне завершения работ по степперу 130 нм начинается подготовка к созданию установки уже под 90 нм. Это важный шаг, потому что такие нормы нужны не для «хайповых» смартфонов, а для вполне востребованных сегментов — автомобильной электроники, промышленной автоматизации и энергетики. При этом новость стоит воспринимать без излишней эйфории: сам литограф — только часть задачи. Для реального серийного выпуска нужны фотошаблоны, материалы, EDA-инструменты, оптика, компетенции и кадры, а именно по этим направлениям остаются серьёзные узкие места. Тем не менее движение вперёд есть: если платформа 130 нм действительно будет доведена до рабочего состояния, то переход к 90 нм может стать не прыжком в пустоту, а последовательным технологическим развитием. И в этом главный смысл новости: Россия шаг за шагом собирает собственную школу микроэлектронного оборудования, где важен не только конечный техпроцесс, но и накопление инженерной базы внутри страны.