В Институт физического материаловедения СО РАН поступила уникальная установка для элект... — 13 мая 2026 г. в 03:12:40.816
В Институт физического материаловедения СО РАН поступила уникальная установка для электронно-лучевой обработки материалов В лабораторию физического материаловедения (ЛФМ) Института физического материаловедения СО РАН доставлена установка для электронно-лучевой обработки УЭЛТ-50/200. Оборудование создано в Институте ядерной физики имени Г.И. Будкера СО РАН и предназначено для решения широкого круга научных и прикладных задач современного материаловедения. Установка представляет собой мощный технологический комплекс с электронно-оптической колонной и электронно-лучевой пушкой. Ускоряющее напряжение составляет 50 кВ при максимальном токе пучка до 200 мА. Среди ключевых особенностей — система магнитной фокусировки и отклонения луча, позволяющая управлять пучком в телесном угле до ±7 градусов, а также режимы импульсной модуляции и параллельного переноса луча в пределах ±10 мм. С 20 по 24 апреля в ИФМ СО РАН для проведения пусконаладочных работ прибыла группа специалистов Института ядерной физики СО РАН. Учёные и инженеры смонтировали и ввели в эксплуатацию оборудование, проверили работу всех систем в штатных режимах и выполнили первые тестовые запуски электронного луча. Поступление установки открыло новые возможности для исследователей ИФМ СО РАН в области создания перспективных материалов, модификации поверхностных свойств изделий и отработки технологических процессов электронно-лучевой обработки.