ЗНТЦ создал опытный образец 130-нм отечественного литографа
ЗНТЦ создал опытный образец 130-нм отечественного литографа Зеленоградский нанотехнологический центр вместе с белорусской компанией «Планар» завершили третий этап опытно-конструкторских работ по созданию 130-нм фотолитографической установки. Использовались 193-нм эксимерные лазеры, созданные компанией «Лассард», а полная стоимость установки составила смешные для чипмейкерства $70 млн. Она работает с 200-мм кремниевыми пластинами и подходит для производства сверхбольших интегральных схем (СБИС). Техпроцесс в 130 нм – это уровень 2001-2002 годов, эпоха Pentium III Tualatin и Athlon XP. Однако на нем можно создавать чипы для IoT, автомобильную электронику, радиочастотные микросхемы и промышленные датчики. Мой Компьютер
2 840 просмотров