⚡ Российская установка для печати микросхем вышла на уровень 150 нм — 21 июля 2026 г. в 06:45:04.001
⚡ Российская установка для печати микросхем вышла на уровень 150 нм Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) создал установку электронно-лучевой литографии (ЭЛЛ) с проектными нормами 150 нм. Два опытных образца сейчас проходят комплексные испытания, которые продлятся около четырёх месяцев. После этого начнутся тесты на точность формирования изображения. Один образец готовится к транспортировке на 2 тысячи километров от Зеленограда. Установка решает две задачи: изготовление фотошаблонов для серийного производства чипов и прямую печать рисунка на подложках без масок. Главное преимущество — гибкость для научных разработок и прототипирования. Можно быстро менять дизайн без дорогостоящих фотошаблонов. Это критично для мелких серий специализированных чипов для космоса и оборонки. Но для массового производства технология слишком медленная. Эксперты называют три острых проблемы отрасли: отсутствие инженерной школы для технологий тоньше 65 нм, дефицит фоторезистов для норм менее 90 нм и отсутствие программы перепроектирования оборудования по примеру Китая (запущена там в 2005–2010 годах). В 2025 году ЗНТЦ представил литограф с разрешением 350 нм. Сейчас ведутся работы над установкой 130 нм — это уровень Intel Pentium 4 и AMD Athlon XP начала 2000-х. Директор центра Анатолий Ковалёв заявлял, что создан задел для перехода к полностью локализованным установкам с нормами 90 нм. Сможет ли Россия преодолеть технологический разрыв без собственной программы перепроектирования оборудования? 🆓 Бесплатный доступ к нейросетям — chatru.net