🔬 Nvidia против реальности: Хуанг обещает Китаю EUV-прорыв к 2030-му — 18 сентября 2026 г. в 06:00:04.004
🔬 Nvidia против реальности: Хуанг обещает Китаю EUV-прорыв к 2030-му Глава Nvidia Дженсен Хуанг заявил в подкасте All-In, что Китай создаст собственное EUV-оборудование для производства передовых чипов уже к 2030 году. С 2019 года ASML не поставляет в КНР сверхжёсткую ультрафиолетовую литографию, и основатель Nvidia уверен — это лишь вопрос времени: «Два-три года — это щелчок, ничтожно мало. Китай весьма хорош в массовом производстве». Реальность выглядит иначе. Китайский производитель SMEE сегодня предлагает только сканеры для 90-нм чипов (193 нм «сухая» литография). Разработка погружной системы для 28-нм существует, но серийных поставок нет — Tom's Hardware считает, что массовое производство на таком оборудовании начнётся не раньше 2028–2029 года. В сфере EUV отставание ещё критичнее: работающих прототипов сканеров с длиной волны 13,5 нм у китайцев пока нет, хотя источники лазерного излучения этой частоты разработать смогли. Хуанг прав в одном: без доступа к зарубежным технологиям китайские инженеры вынуждены импортозамещать всё — и сокращение отрыва действительно вопрос времени. Но паритет с ASML к 2030-му выглядит слишком оптимистичной ставкой. 🆓 Бесплатный доступ к нейросетям — chatru.net