Китай приблизился к созданию собственных EUV-литографов
Китай приблизился к созданию собственных EUV-литографов Китайский стартап Landau Flint представил прототип источника EUV-излучения с долей местных компонентов до 90%. Установка выдаёт более 15 Вт излучения и предназначена для производства чипов по техпроцессу 7 нм и тоньше. До серийного выпуска ещё 3–5 лет: мощность необходимо увеличить в десятки раз.
79 просмотров