Китай приблизился к независимому производству микросхем — 28 июля 2026 г. в 11:00:05.398
Китай приблизился к независимому производству микросхем Акции крупнейших поставщиков оборудования для производства микросхем резко снизились после сообщения о начале выпуска в Китае собственных иммерсионных литографических установок глубокого ультрафиолетового диапазона, или DUV. Государственная компания из Шанхая уже начала ограниченное производство таких систем и рассчитывает выпустить около пяти установок в 2026 году, а в 2027-м увеличить объем примерно до 20 машин. Первые поставки ожидаются крупнейшим китайским производителям микросхем SMIC, Hua Hong Semiconductor и ChangXin Memory Technologies. Рынок отреагировал в тот же день. Акции нидерландской ASML, которая занимает доминирующее положение в сегменте передовой литографии, завершили торги снижением на 8,4%. Бумаги американских производителей оборудования также оказались под давлением: Applied Materials в ходе сессии теряла около 6%, Lam Research около 7%, KLA почти 5%. Индекс полупроводниковых компаний Филадельфийской фондовой биржи снижался примерно на 3%. Масштаб первых китайских поставок пока значительно уступает производству ASML. По собственной отчетности компании, в 2025 году она продала 279 DUV-систем, а ее общая выручка достигла €32,7 млрд. При этом Китай остается важным рынком для компании, поэтому появление местного поставщика создает риск постепенного сокращения спроса на импортное оборудование, особенно если качество и объем выпуска китайских установок будут расти. Технологический разрыв пока сохраняется. Китайские машины уступают оборудованию ASML по производительности, точности совмещения слоев и надежности и нуждаются в дополнительном тестировании перед полноценным использованием на производственных линиях. DUV позволяет выпускать более сложные микросхемы за счет многократной экспозиции одного слоя. ASML подтверждает, что такой метод применяется на передовых техпроцессах, хотя для наиболее критичных слоев современных чипов индустрия использует экстремальную ультрафиолетовую литографию, или EUV. Китайская EUV-система пока находится на стадии прототипа. Значение китайской разработки связано прежде всего с экспортными ограничениями. Поставки EUV-оборудования ASML в Китай запрещены, а Вашингтон обсуждает дальнейшее ограничение экспорта и обслуживания наиболее современных DUV-машин. Собственное производство таких установок снижает зависимость китайских фабрик от импорта в тех сегментах, где DUV остается достаточной для выпуска продукции. Царьград.Про — подпишись и понимай раньше других