Нанодисперсный диоксид кремния — один из ключевых компонентов для современной микроэлек...
Нанодисперсный диоксид кремния — один из ключевых компонентов для современной микроэлектроники. Он входит в состав специальных суспензий для химико-механической полировки, которая позволяет уменьшать шероховатость и выравнивать поверхность полупроводниковых пластин на различных этапах изготовления интегральных микросхем. Если говорить простыми словами, вещество представляет собой порошок из мелких частиц (в несколько десятков нанометров), и от их чистоты и геометрических параметров зависит то, насколько хорошо они будут воздействовать на поверхность микросхем. Ученые ННГУ представили новый способ получения частиц с нужными параметрами. «Особенность разработки заключается в объединении процессов синтеза и очистки, что позволяет получать высокочистый диоксид кремния с сохранением характеристик наночастиц, важных для их последующего применения. Это особенно значимо, поскольку даже незначительные загрязнения или образование крупных агрегатов частиц могут приводить к появлению дефектов на поверхности полупроводниковых пластин», — рассказала к.х.н. Ксения Отвагина. Фото: cc0collection / фотобанк 123RF Подробнее на портале Научная Россия #диоксид_кремния