Китай представил прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) дл...
Китай представил прототип источника экстремального ультрафиолетового излучения (EUV) для производства чипов Массовое производство начнется через 3–5 лет По информации TrendForce, компания Langdao Silex представила свой первый прототип источника EUV на 26-й Китайской международной промышленной выставке. По словам сотрудников, система на 90% состоит из отечественных компонентов, а большинство основных компонентов разработано внутри компании. Она использует технический подход, аналогичный тому, что применяют ведущие международные поставщики, и может использоваться для тестирования воздействия на микросхемы. https://russianelectronics.ru/kitaj-predstavil-prototip-istochnika-ekstremalnogo-ultrafioletovogo-izlucheniya-euv-dlya-proizvodstva-chipov/