⚙️ Установка ПЛАЗМА ТМ 7 отгружена заказчику — 13 июля 2026 г. в 09:20:37.085
⚙️ Установка ПЛАЗМА ТМ 7 отгружена заказчику АО НИИТМ завершило поставку заказчику вакуумной установки плазмохимического травления оксида кремния ПЛАЗМА ТМ 7. 🏗️ ПЛАЗМА ТМ 7 входит в линейку оборудования плазмохимического травления диэлектрических слоёв и полупроводниковых материалов ПЛАЗМА ТМ. 🚀 Преимущества: 🔴Адаптивность: может быть применена для обработки пластин диаметром 100-150 мм без сложной перенастройки транспортного робота 🔴Универсальность – подходит для широкого спектра производственных процессов 🔴Высокая герметичность рабочей камеры 🔴Стабильность работы в агрессивных средах 🔴Повышенная точность и воспроизводимость благодаря встроенной оптической системе определения окончания процесса травления. ✨ Установка гарантирует высокую степень надёжности в сочетании с высокой скоростью травления оксида кремния (SiO₂) от 300 нм/мин. ✅ В зависимости от выбора эксплуатационных газов возможно травление различных материалов: 🔴нитрид кремния (Si₃N₄) 🔴поликремний (poly-Si) 🔴монокристаллический кремний (mono-Si)