Китай построил свой «Манхэттенский проект», чтобы конкурировать с Западом в производств...
Китай построил свой «Манхэттенский проект», чтобы конкурировать с Западом в производстве чипов для искусственного интеллекта В строго охраняемой лаборатории в Шэньчжэне китайские ученые создали то, чему Вашингтон годами пытался помешать: прототип машины, способной производить передовые полупроводниковые чипы, которые лежат в основе искусственного интеллекта, смартфонов и оружия, играющего ключевую роль в военном превосходстве Запада. Прототип, завершенный в начале 2025 года и в настоящее время проходящий испытания, занимает почти весь производственный цех. Он был создан командой бывших инженеров голландского полупроводникового гиганта ASML. Открывает новую вкладку По словам двух источников, знакомых с проектом, они провели обратное проектирование машин для экстремальной ультрафиолетовой литографии (EUV) компании. Ультрафиолетовые установки находятся в самом центре технологической холодной войны. Они используют лучи экстремального ультрафиолетового света для нанесения на кремниевые пластины схем в тысячи раз тоньше человеческого волоса — технология, в настоящее время монополизированная Западом. Чем меньше схемы, тем мощнее чипы. В апреле генеральный директор ASML Кристоф Фуке заявил, что Китаю потребуется «много-много лет» для разработки подобных технологий. Но существование этого прототипа, о котором впервые сообщило агентство Reuters, говорит о том, что Китай может быть на несколько лет ближе к достижению независимости в полупроводниковой отрасли, чем предполагали аналитики. Тем не менее Китай по-прежнему сталкивается с серьезными техническими проблемами, особенно в воспроизведении высокоточных оптических систем, производимых западными поставщиками. Наличие комплектующих от старых машин ASML на вторичном рынке позволило Китаю создать отечественный прототип, и правительство поставило цель начать производство работающих микросхем на этом прототипе к 2028 году. Однако источники, близкие к проекту, говорят, что более реалистичной целью является 2030 год, что все же на несколько лет раньше, чем десятилетие, которое, по мнению аналитиков, потребуется Китаю, чтобы сравняться с Западом в производстве микросхем. Этот прорыв знаменует собой кульминацию шестилетней правительственной инициативы по достижению самообеспеченности полупроводниками, одной из главных приоритетных задач президента Си Цзиньпина. По словам источников, хотя цели Китая в области полупроводников были обнародованы, проект в Шэньчжэне по производству EUV-лазеров осуществлялся втайне. Китайские власти не ответили на запросы о комментариях. До настоящего времени технологию EUV освоила лишь одна компания: ASML, штаб-квартира которой находится в Велдховене, Нидерланды. Ее оборудование, стоимость которого составляет около 250 миллионов долларов, незаменимо для производства самых передовых чипов, разработанных такими компаниями, как Nvidia и AMD, а также выпускаемых такими производителями микросхем, как TSMC, Intel и Samsung. Компания ASML создала свой первый рабочий прототип технологии EUV в 2001 году и сообщила агентству Reuters, что ей потребовалось почти два десятилетия и миллиарды евро, потраченные на исследования и разработки, прежде чем она выпустила свои первые коммерчески доступные чипы в 2019 году. «Вполне логично, что компании захотят скопировать нашу технологию, но сделать это — задача не из легких», — говорится в заявлении ASML, опубликованном агентством Reuters. Системы EUV компании ASML в настоящее время доступны союзникам США, включая Тайвань, Южную Корею и Японию. Начиная с 2018 года Соединенные Штаты начали оказывать давление на Нидерланды, чтобы те заблокировали продажу компанией ASML систем EUV в Китай. Ограничения расширились в 2022 году, когда администрация Байдена ввела масштабный экспортный контроль, призванный перекрыть Китаю доступ к передовым полупроводниковым технологиям. ASML сообщила агентству Reuters, что ни одна система EUV никогда не продавалась клиентам в Китае. Меры контроля были направлены не только на системы EUV, но и на