Правительство утвердило балльную систему для оборудования по производству чипов. Требов... — 16 июня 2026 г. в 14:14:09.579
Правительство утвердило балльную систему для оборудования по производству чипов. Требования начнут действовать с сентября 2026 г. Постановление вводит балльную систему для восьми категорий оборудования: установки для эпитаксиального выращивания полупроводниковых структур, литографы, установки ионной имплантации, оборудование для производства полупроводниковых слитков, для термической обработки пластин (осаждения, диффузии и пр.), для формирования тонкопленочных структур, лазерное оборудование для обработки и полировки полупроводниковых пластин. Например, производителям литографов будут давать по 30 баллов за российские источники излучения, катодные узлы, объективы, оптические тракты, электронно-оптические системы, вакуумные насосы, модули совмещения и высоковольтные источники питания, по 20 баллов — за использование отечественных механизмов перемещения пластин, контроллеров и устройств сопряжения, по 10 — за детекторы электронов, механизмы загрузки, ИБП, электротехнику и каркас. Для каждого вида оборудования установлены минимальные пороги баллов с поэтапным ужесточением. Для эпитаксиального оборудования минимальный порог вырастет с 130 до 250 баллов, для литографического — с 80 до 170 баллов, для установок ионной имплантации — с 180 до 210 баллов (требования вступят в силу только с 2029 г.). Для оборудования термической обработки пластин порог повысится с 80 до 170 баллов, для установок формирования тонкопленочных структур — с 90 до 250 баллов, для лазерного оборудования — с 70 до 160 баллов, а для полировальных и шлифовальных машин — с 90 до 210 баллов. Подробнее: https://www.cnews.ru/news/top/2026-06-16_pravitelstvo_utverdilo #новостиэлектроники